보유기술정보 | |
---|---|
출원번호 / 일자 | 1020170079330 (2017-06-22) |
등록번호 / 일자 | 1019188510000 (2018-11-08) |
발명자 | 중앙대학교 산학협력단 |
기술명 | 반도체 특성을 갖는 전도성 고분자 박막의 제조방법 및 반도체 특성을 갖는 전도성 고분자 박막을 포함하는 박막 트랜지스터 |
요약 | 본 발명의 반도체 특성을 갖는 전도성 고분자 박막의 제조방법 및 반도체 특성을 갖는 전도성 고분자 박막을 박막 트랜지스터에서, 본 발명의 반도체 특성을 갖는 전도성 고분자 박막의 제조방법은 전도성 고분자 박막의 적어도 일부분을 표면처리제로 처리하여, 상기 표면처리제에 노출된 전도성 고분자 박막의 적어도 일부분의 전하 밀도를 감소시키는 단계를 포함한다. |
서울캠퍼스 : 06974 서울특별시 동작구 흑석로 84
다빈치캠퍼스 : 17546 경기도 안성시 대덕면 서동대로 4726