대학보유기술

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보유기술정보
출원번호 / 일자	1020130048773 (2013-04-30)
등록번호 / 일자	1014708180000 (2014-12-03)
발명자	중앙대학교 산학협력단
기술명	급속 가열 방식의 미세 패턴 형성을 위한 유리질 탄소 몰드 및 그 제조 방법과 이를 이용하는 미세 패턴 형성 방법

요약

저항 가열 방식을 이용한 고온 압축 패턴 형성 기술에서의 금형 가열 방식에 있어서, 금형의 패턴 부분만을 효과적으로 가열할 수 있고, 가열을 위해 전기를 인가 시 패턴 부분과 전극 사이의 접점에서 저항이 커지는 것을 방지하기 위한 기술을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 급속 가열 방식의 미세 패턴 형성을 위한 유리질 탄소 몰드 제조 방법은, 마이크로 나노 패턴의 돌출부를 갖도록 형성한 제1 몰드의 상부 양단에, 제1 몰드의 상부면에 이격되도록 하되, 일부분이 제1 몰드의 상부면에 포함되고 다른 일부분은 제1 몰드의 양단으로부터 외부에 노출되도록 전도성의 제1 전도체 및 제2 전도체를 위치시키는 단계; 제1 몰드 상에 열경화성 혼합물을 도포하되, 도포된 혼합물이 제1 전도체 및 제2 전도체의 일부분을 포함하도록 도포하는 단계; 도포된 혼합물을 경화하여 경화된 열경화성 수지 전구체층을 제조하는 단계; 경화된 열경화성 수지 전구체층에 탄화 공정을 수행하여 제1 전도체 및 제2 전도체의 일부분을 내부에 포함하는 유리질 탄소 몰드를 생성하는 단계; 및 생성된 유리질 탄소 몰드를 제1 몰드로부터 분리시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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