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보유기술정보
출원번호 / 일자	1020070021871 (2007-03-06)
등록번호 / 일자	1008540820000 (2008-08-19)
발명자	중앙대학교 산학협력단
기술명	플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법

요약

본 발명은 플라즈마 식각 장치를 이용하여 시즈닝 하는 방법을 개시한다. 상기 시즈닝 방법은 챔버의 공정 온도를 측정하는 단계; 측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 있는 지를 판단하는 단계; 판단 결과, 측정된 온도가 기 설정된 온도 범위 내에 없을 경우, 시즈닝 공정을 시작함으로써, 빛 방출 분석법을 활용하여 이온이나 라디칼의 밀도를 측정하고, 그로부터 해리율 및 이온화 율을 얻는 단계; 해리율, 이온화율에 영향을 미치는 플라즈마 공정 변수들 중, 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 안에 있는 지를 판단하는 단계; 판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 없을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지할 때까지, 상기 현 공정의 플라즈마 공정 변수의 값을 피드백 제어하는 단계; 및 판단 결과, 상기 현재 공정의 플라즈마 공정 변수의 값이 기 설정된 정상 조건의 플라즈마 공정 변수의 값의 범위 내에 있을 경우, 상기 챔버의 내부를 메인 식각 가능한 분위기로 유지하고 시즈닝 공정을 종료하는 단계를 포함한다. 식각, 온도 센서, 플라즈마, 해리율, 이온화율, 피드백 제어

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